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化學機械拋光（CMP）設備應用提案
| CMP設備在轉臺上使用多個擺臂機構，比如將如拋光墊修整器等移動到位的機構。 下面我們將為您介紹CMP機械臂機構的課題解決方案！ |
機械臂機構及主要驅動源
為保證在整個晶圓上均勻分配適量的材料，CMP工藝在材料去除過程中施加不同的力，并精確停止。
因此，為擺臂機構提供精確定位控制非常重要，合理的選用響應快速的驅動源，以避免拋光過多的基材。
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實現節省空間、低成本的多軸/薄型驅動器（最多支持4軸）
?SSCNETⅢ/H是三菱電氣株式會社的注冊商標。
?MECHATROLINK是MECHATROLINK協會的注冊商標。
?EtherCAT®是德國倍福自動化有限公司授權使用的注冊商標。
備有可對應SSCNETⅢ/H、MECHATROLINK-Ⅲ、EtherCAT的產品。
軸數 ： 雙軸、3軸、4軸
*其中“薄型（4軸）“詳情還請聯絡客戶咨詢中心或距離您最近的銷售點（?點此查看各銷售點聯絡方式）
?SSCNETⅢ/H是三菱電氣株式會社的注冊商標。?MECHATROLINK是MECHATROLINK協會的注冊商標。
?EtherCAT®是德國倍福自動化有限公司授權使用的注冊商標。
